（12）实用新型专利
（21）申请号 CN201920681837.5 （22）申请日 2019.05.14
（71）申请人 芯恩(青岛)集成电路有限公司
地址 266555 山东省青岛市黄岛区中德生态园团结路2877号ICIC办公楼4楼
（10）申请公布号 CN210560739U
（43）申请公布日 2020.05.19
（72）发明人 贾超超;刘佑铭
（74）专利代理机构 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 陈敏
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
化学气相沉积气体供应系统及设备
（57）摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积气体
供应系统及设备，所述气体供应系统包括多个气体注射器，每个所述气体注射器的侧壁上设有出口和至少一个通气孔。所述化学气相沉积设备包括反应腔、以及设置在所述反应腔内的所述的气体供应系统。本实用新型能够有效解决现有的化学气相沉积生产过程中由于气流不均匀造成的多晶薄膜厚度的均匀性差的问题。
法律状态
法律状态公告日
2020-05-19
授权
法律状态信息
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法律状态
权利要求说明书
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说明书
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