等离子处理系统等离子处理的原理
发布网友
发布时间：2024-10-23 23:54
共1个回答
热心网友
时间：2024-11-06 05:33
等离子体，一种超越固、液、气态的特殊物质状态，常见于电离层，由高速电子、激活的中性原子、离子和未反应分子组成，总体保持电中性。这种状态在特定条件下产生，如通过密封容器中的电极装置，通过真空泵实现低压力环境，气体分子在电场作用下碰撞形成等离子体。
等离子处理技术便是利用等离子体的特性进行应用。通过电极装置产生的等离子体，如氧气，具有极高的氧化性，能清除光刻胶反应生成的气体，达到清洗效果。而对于腐蚀性气体，其各向异性可满足刻蚀需求，整个过程伴随着辉光放电的现象。
等离子体处理的机理主要依赖于活性粒子对物体表面污渍的“活化作用”。清洗过程包括气体激发、吸附、反应生成产物并解析，最终清除表面残留物。其优点广泛，适用于金属、半导体、高分子材料等多种基材，包括聚丙烯、聚酯等，且能处理复杂结构，保证整体清洗效果。
等离子处理技术还具有高度自动化和精确控制的特点，使用数控技术，能精确控制处理时间，避免表面损伤，保证表面质量。同时，由于在真空环境中进行，既无环境污染，又确保清洗表面不会二次污染，从而提升清洗效率和洁净度。
